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누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치 
PLASMA PROCESSING EQUIPMENT WITH A LEAKAGE CURRENT TRANSFORMER
소 속
인제대
연구책임자
이제원
기술분류
반도체/디스플레이
키워드
저온 플라즈마 발생장치, 냉음극 플라즈마, 표면 처리, PECVD, 건식 식각, 실용화 
 
기술개발 단계(TRL 9단계)
기초연구단계 실험단계 시작품단계 제품화단계 사업화
1. 기초이론/실험   3. 실험실 규모의
기본성능 검증
V 5. 확정된 시작품
제작 및 성능평가
  7. 신뢰성 평가 및
수요기업 평가
  9. 사업화  
2. 실용목적의
아이디어,
특허등 개념 정립
  4. 실험실 규모의
평가
  6. 파일롯 규모
시작품 제작 및
성능 평가
  8. 시제품 인증 및
표준화
   
- 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치/ 10-1147349/ 2012.05.11/ 특허등록
- 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs이종 접합의 선택적 식각/ 10-1290827/ 2013.07.23/ 특허등록
- 플라즈마를 이용한 GaAS/AlGaAs 이종 접합 구조의 비선택적 식각 방법/ 10-1290828/ 2013.07.23/ 특허등록
 
본 기술은 플라즈마 장치의 원천 기술 및 실용화를 위해 개발된 저렴한 플라즈마 발생장치에 관한 것이다. 기존의 라디오파 전원 대신 누설 전류형 변압기 중 하나인 냉음극 전원장치를 사용하여 진공 반응기 내부에서 플라즈마 식각, 증착, 에슁 등의 표면 처리가 가능하다. 또한 플라즈마 처리시 기존의 고주파 전원과는 달리 부가적 매칭 박스를 사용하지 않아 공정장치가 매우 안전하며 단순해지고, 경제적이다.
특히 본 기술은 전세계적으로 새로운 저가 플라즈마 장치 시장을 개척할 수 있으며, 향후 양산화가 실현된다면 기존의 플라즈마 처리 장치에 대비하여 반도체, 디스플레이, PCB, 센서, MEMS 제조 공정 장치 시장에서 성능과 가격 기반의 새로운 틈새 시장 개척 가능. 추가로 개발한 플라즈마 감시 장치와 융합으로 높은 가성비의 양산용 플라즈마 시스템 및 공정 개발 가능

 
- 특징
   • 고가의 부가적 매칭 박스를 제거하고   저주파수에서 임피던스 매칭이 보다 쉬운 트랜스포머 사용
   • 실험실에서 새로이 개발한 신개념 플라즈마 감시 장치와 융합 가능 
   • 고가의 고주파 매칭 네트워킹 없이 새로운 저가형 플라즈마 전원 장치 추가 개발 가능
   • 양산성이 입증되면 고기능 저가 플라즈마 장치의 글로벌 틈새시장 선점 및 Blue Ocean 개척 가능
- 장점
   • 플라즈마 처리 장치를 보다 단순화하여 간단한 운영가능
   • 220 V 단상 사용 가능
   • 기존의 플라즈마 장치보다 경제적이고 유지보수가 쉬우며 소재의 다양한 표면처리 공정이 가능함
 
-  반도체 소자, 디스플레이 패널, PCB 표면 처리, 센서, MEMS 제조
- 금속, 연성 물질, 종이, 고분자의 표면처리 (Dry etching, PECVD 포함)

 
- 통상실시권허여, 라이센스, 기술협력, 고부가가치 플라즈마 신기술/장비 개발, 첨단 소재/소자/시스템 개발
 
- 인제대학교 산학협력단 손원일 팀장 (055-320-3923 / genecool@inje.ac.kr)
 
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